半導体関連特殊ガス

当社では、半導体製造プロセスに欠かせない特殊ガスやガス供給装置、関連部品の提供をはじめ、クリーンルーム用機器や各種装置の開発・保守まで幅広く対応しております。高純度・高精度が求められる分野において、お客様のニーズに応じた最適なソリューションをご提案いたします。

1. 半導体用特殊ガス

最先端の半導体プロセスに対応するための高純度特殊ガスを取り扱っております。製品情報は現在準備中ですが、ご要望に応じて個別のご案内も可能です。お気軽にお問い合わせください。

(※現在、詳細を準備中)

2. ガス供給装置

半導体製造ラインにおける高純度ガスの安定供給を支える各種装置を提供しております。

  • シリンダーキャビネット(Cylinder Cabinet)

    高圧ガスボンベを安全かつ効率的に管理・供給するための保護収納設備。 ガス漏れ検知、遮断機能を備えた設計で安全性を確保します。

  • ガスマニホールド(Gas Manifold)

    複数のガス源を制御し、必要な流量・圧力で供給を行うための配管集合装置。 プロセスごとに最適化された構成をご提案いたします。

  • バルブボックス(Valve Box)

    ガスラインの中間に設置される制御装置。プロセスチャンバーへの分配や、安全遮断機能を備えた制御盤として機能します。

3. ガス関連部品

高い耐食性と精密な制御性能を兼ね備えた各種ガス関連部品を取り揃えています。

  • バルブ・フィッティング・レギュレーター

    高純度ガスラインに対応したコンポーネントで、精密な圧力制御と漏れ防止を実現します。

  • ガス検知器・火炎検知器

    ガス漏れや発火リスクを迅速に検知し、プロセスの安全性を確保するためのモニタリング機器です。

  • マスフローコントローラー(MFC)

    ガスの流量を高精度に制御するための電子制御機器で、各種プロセスにおける安定運用を支援します。

4. クリーンルーム関連部品

高レベルの清浄度が求められるクリーン環境向けの製品もご用意しています。

  • ケミカルフィルター

    空気中の微粒子や化学物質(AMC: Airborne Molecular Contaminants)を効率的に除去するためのフィルターユニット。製造歩留まりの向上と装置の長寿命化に貢献します。

5. ガス関連装置の開発・メンテナンス

当社では、ガス関連装置の設計・製造に加え、既存設備のメンテナンスにも対応しております。長年のノウハウを活かし、お客様の運用状況に最適なご提案をいたします。

Semiconductor Specialty Gas

No. Gas Name CAS No. Depo Etch Clean Dopant Others
1 C3F8 Octafluoropropane 76-19-7
2 C4F8 Octafluorocyclobutane 360-89-4
3 C5F8 Octafluorocyclopentene 559-40-0
4 C4F6 Hexafluoro-1,3-butadiene 685-63-2
5 XeF2 Xenon Difluoride 13709-36-9
6 CF3I Trifluoroiodomethane2 2314-97-8
7 BF3 Boron-11 trifluoride 7637-07-02
8 PF3 Phosphrous trifluoride 7783-55-3
9 PF5 Phosphorus pentafluoride 7647-19-0
10 GeF4 Germanium tetrafluoride 7783-58-6
11 MoF6 Molybdenum hexafluoride 7783-77-9
12 TeF6 Tellurium hexafluoride 7783-80-4
13 COF2 Difluoromethanone 353-50-4
14 HF Hydrofluoric Acid 7664-39-3
15 TiF4 Titanium Tetrafluoride 7783-63-3
16 SF4 Sulfur Tetrafluoride 7783-60-0
17 SiF4 Silicon Tetrafluoride 7783-61-1
18 ClF3 Chlorine Trifluoride 7990-91-2

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